ASML
德國柏林工廠近日發生火災，據瞭解，佔地32，000平方公尺的柏林廠區，約200平方公尺廠區受火災影響！
ASML發言人於1月4日稱，廠區受到火災損傷的區域仍然處於關閉狀態。
該工廠主要製造光刻機光學零元件，如晶圓臺、光罩吸盤和反射鏡，固定光罩的光罩吸盤處於緊缺狀態。零元件以供應 EUV 機臺較多，且以晶圓代工需求佔多數。若因火災使零元件交期延後，不排除ASML將優先分配主要產出支援晶圓代工訂單的可能性。
據悉，EUV主要使用7nm以下先進製程製造。全球僅臺積電與三星使用此裝置製造，臺積電7nm、5nm、3nm製程，三星南韓華城EUV Line（7nm、5nm及4nm）及3nm GAA製程等。不過受全球晶圓代工產能緊缺、各廠積極擴廠等因素影響，半導體裝置交期也越拉越長。
DRAM方面，目前三星及SK海力士已用於1Z nm及1alpha nm製程，美系廠商美光預計2024年匯入EUV於1gamma 納米制程。據分析機構TrendForce目前掌握，ASML EUV裝置交期落在12~18個月，也因裝置交期較長，ASML或在裝置組裝時間等待工廠損失的零元件重新制造。
儘管ASML努力淡化火災影響，但分析師警告稱，ASML德國柏林廠這起意外，可能拉長全球晶片短缺的持續時間。有外媒報道稱，ASML柏林廠生產微影裝置的關鍵零元件，若該公司出貨量因為這起意外減少10%，可能導致全球光刻機的供應減少約8。4%。分析師Matthew Bryson評論稱，大火可能至少在短期內限制ASML產量，從而阻礙計劃中的代工生產。
瓜分6666元現金紅包！領取8%+理財券，每日限額3000份！
