國產光刻機，怎麼樣了？
眾所周知，目前的全球光刻機市場，可以簡分為三個等級。
荷蘭ASML公司作為整合製造商，佔據全球中高階光刻裝置市場份額，一家獨大。
其次是被忽視的日本企業尼康和佳能，很多人知道尼康和佳能在光學元器件方面享譽全球，但二者在中低端光刻機裝置領域也佔著一席之地。
再就是上海微電子，最新訊息稱上海微電子正在研製的28nm浸沒式光刻機透過多項驗證，預計2023年交付，而90nm已透過驗證。
也就是說，上海微電子有能力研發28nm，甚至14nm光刻機，但綜合實際情況，頂尖精密製造這種裝置的研發攻關是需要各項配套技術齊頭並進的，其中哪一項技術跟不上或者慢半拍就需要等，佳能尼康作為前車之鑑就是卡在了193nm光源問題上。
所以這條路需要國產供應鏈“集中力量辦大事”才更有機會突圍。
此外，上海微電子在向高階化光刻裝置攻關的同時，也積累了不少的專利數量，據資料統計顯示，上海微電子在半導體裝置技術專利方面已經擁有超過三千八百多項，其技術專利分類以光刻機、工件臺、投影物鏡、測量裝置、光刻機等為主。
值得注意到的是，中微半導體研製的等離子體刻蝕裝置被廣泛應用在臺積電等國際一線大廠的生產線中，覆蓋工藝範圍在65nm到5nm不等。
所以，儘管說一個國家很難在各個尖端技術上都做到領先世界，但我們要資金有資金、要人才有人才，好的政策方向也在不斷扶持鼓勵，輿論更是開足了馬力。在這種良好土壤下，中國“晶片”向上生長的過程中唯獨稀缺時間而已，所以我們完全有理由相信晶片供應鏈能夠充分國產化。
釋出於：甘肅
