2021-10-20ASMLEUV光刻機裝置晶片

然而，由於ASML產線上含有超過20%的美技術零件，在老美的干預下，以至於我們花高價也買不到一臺EUV裝置，這顯然成了我們衝擊高階晶片市場最大的壁壘...

2021-10-20光刻機晶片ASMLEUV10

事實上，無法向中國出口EUV光刻機，這也是ASML不想看到的局面，因為他們深知，中國是世界上人口最多的國家之一，在晶片領域也擁有龐大的市場，這是一塊大蛋糕...

2021-10-19DRAM海力士SKEUV光刻機

SK海力士對運用EUV光刻機技術進行1anm DRAM量產的實現，將拉開與其它廠商間的差距，搶佔更多的市場份額，這會給我國的DRAM市場帶來強烈的衝擊...

2021-10-15光刻機阿斯臺積EUV來講

所以憑藉這臺裝置在未來很長一段時間內，將沒有人能夠撼動其位置，雖然目前日本的佳能以及尼康正在不斷的崛起，但是在光刻機領域之中，阿斯麥無疑獨佔鎖幾乎所有的優勢，所以即便是所以對於阿斯麥來講，尼康和佳能這兩家企業無疑是秋後的螞蚱，蹦躂不了幾天了...

2021-10-10EUVASML光刻機裝置光刻

作為晶片製造的核心裝置，全球能生產EUV的只有荷蘭光刻巨頭ASML，但它的產線上卻含有超過20%以上的美技術零件，在老美出口管制規則的約束下，國內市場即便是花費高價也難以買到一臺EUV裝置...

2021-10-08光刻機EUV晶片ASML製造

在目前的光刻機市場上，能夠製造光刻機的只有荷蘭ASML、日本尼康、佳能和中國的上海微電子，而最為先進的EUV光刻機（能夠生產出小於5奈米的晶片晶圓）只有ASML一家能夠製造，因此ASML作為行業內的天花板級別的存在，可以說是一家獨大...

2021-10-08光刻機阿斯EUV製造佳能

其實國內並不是沒有光刻機制造廠商，像是國內的上海微電子，就具備生產光刻機的能力，但是值得一提的是，上海微電子目前只能夠製造出中低端光刻機來，也就是說，我們在高階光刻機的問題上依舊難以得到解決美國修改規則之後，國內想要從阿斯麥進口EUV光刻機...

2021-10-08EUVASML光刻機裝置光刻

作為晶片製造的核心裝置，全球能生產EUV的只有荷蘭光刻巨頭ASML，但它的產線上卻含有超過20%以上的美技術零件，在老美出口管制規則的約束下，國內市場即便是花費高價也難以買到一臺EUV裝置...

2021-10-04EUV英特爾臺積ASMLNA

如果 ASML 任命英特爾為高 NA EUV 客戶以換取其承諾，並且作為其獎勵，英特爾優先於臺積電獲得工具使用權，那麼這可能是讓英特爾在「摩爾定律遊戲」中領先於臺積電的不同之處...

2021-09-30華為晶片國芯EUV7nm

三、華為高階芯有戲了，已與國產半導體形成命運共同體只要EUV光學鏡頭突破到50皮米，那麼國產EUV光刻裝置將成功實現，加上南大光電Arf光刻膠已經突破到7nm高階水準，國芯將成功實現7nm及以下的高階晶片水準，從而徹底打破西方ASML在EU...

2021-09-21ASML光刻機EUV臺積韓國

看到臺積電三星未來然而，荷蘭ASML能夠超過日本的尼康、佳能，壟斷EUV光刻機市場，主要是因為當初美國英特爾讓其加入了的EUV  LLC組織，這個組織將日本的尼康排除在外，ASML獨享了這個組織的EUV相關技術，才能夠一舉成為光刻機領域的霸...

2021-09-20光刻機EUV光源多層球面鏡

極紫外光刻機有八大核心技術，分別是光源技術微縮投影光學系統EUV多層膜技術光學加工與檢測系統掩模照明光學系統反射式掩模技術抗蝕劑技術精密工件臺技術光源技術EUV光刻機對光源的要求比較高...

2021-09-20EUV英特爾臺積ASMLNA

如果 ASML 任命英特爾為高 NA EUV 客戶以換取其承諾，並且作為其獎勵，英特爾優先於臺積電獲得工具使用權，那麼這可能是讓英特爾在「摩爾定律遊戲」中領先於臺積電的不同之處...

2021-09-15EUV裝置ASML海力士SK

圖源：路透集微網訊息（文/思坦），據業內透露，截至第二季度，ASML EUV裝置出貨總量達到102臺，隨著需求量的提高和客戶群的擴大，預計2年內累計供應量將增加2倍以上，標誌著EUV時代正式拉開帷幕...

2021-08-27ASML光刻機EUV研發投入

我們不能期望在研發經費投入差距這麼大的情況下，短期內讓上海微電子裝備的光刻機追上ASML，這是不現實的...

2021-08-05EUVMET曝光光刻機光機所

圖4：MET工具一般具有200x600 um2的靜態曝光視場3，1999-2002年：基於4鏡頭EUV光源工程測試平臺ETS這個之前詳細介紹過，EUV光源工程測試平臺（Engineering Test Stand，ETS）是一個4鏡頭的可進...

2021-07-06華為EUV國產晶片光刻

首先我們先來了解一下7nm及以下高階晶片製造需要的關鍵裝置極紫外EUV光刻裝置，全球目前僅ASML獨家限量供應，其三大核心技術包括EUV光源、同步雙工件臺以及EUV光學鏡頭，現階段國產晶片產業在清華大學、華卓精科的技術支撐下，已經掌握EUV...

2021-06-26光刻機阿斯晶片EUV製程

中國之所以不能夠在晶片領域取得更進一步的突破，究其根本原因就是因為在晶片製造過程之中所需的關鍵裝置上被卡了脖子，我們都知道生產晶片是需要光刻機的，目前晶片的製程已經發展到了3奈米，而7奈米以下的晶片製程是必須依靠EUV光刻機才能夠完成的...

2021-06-24光刻膠EUVArF三星KrF

事實上，中國光刻膠同樣處於尷尬地位，目前國內g線/i線光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率不足5%，ArF光刻膠自給率為0，完全依賴進口，而EUV光刻膠就更加不用提了，自然不可能有，不過反正也不需要，國內生產技術還14nm，用不到EU...

2021-05-10光刻機中芯EUV製程阿斯

用最先進的EUV光刻機，臺積電和三星已經先後向3nm製程的晶片發起衝擊，據說臺積電依然領先，有機會率先推出量產商業化的3nm製程工藝...