目前來說，國內做光刻機的主要有三個機構，分別是上海微電子裝備集團、中國科學院長春光學精密機械與物理研究所和中電科。
呀呵咋回事兒？看過我之前文章的小夥伴此時一定會有一個疑問，上微和長光所經常出現，但是這個中電科是怎麼回事兒？
既然大家對中電科這麼感興趣，那我就先從中電科說起。
在和某熱心網友交流的時候，他甩了我一張圖。我一看，很快啊，就反應過來這是國內某著名軍事論壇的截圖。
圖上說，中電科要產業化光刻機。我當時就是一臉問號，什麼情況？光刻機不是上海微電子和長春光機所在做麼？中電科又是從哪冒出來的？
眾所周知，這種論壇的訊息的可信性一般是要打個5折的。本著求實的精神，我按照關鍵詞搜了一下，沒想到還真讓我找到了這個專案的環評檔案。
專案名稱叫做中國電科（北京）積體電路核心裝備自主化及產業化建設專案（一期）
，也就是說還有二期。根據專案地址，我在百度地圖上搜了一下，這個位置是中電科第四十五研究所，又名“北京半導體專用裝置研究所”。根據環評檔案，該專案預計投產時間為2021年12月，年產20臺光刻機，其中兩臺竟然是65nm級光刻機。
按照百度百科的說法，45所主要的專業方向是光學細微加工和精密機械與系統自動化。然後我又去查了一下專利，發現45所近幾年的專利大部分集中在切割、清洗、焊線這一類技術。而光刻機相關的專利基本都處於“權利終止”狀態。
比如14年申請的“可動態調焦的鐳射直寫式光刻系統”，這個專利在18年竟然因為沒繳費而被終止了。
所以，理論上來說，45所是有光刻機的技術儲備的。但是，45所那個65nm的光刻機是個什麼水平呢？於是我又對45所的各種資訊進行了一點簡單的挖掘與分析。
得出的結論可能會讓大家失望，45所將要產業化的光刻機應該不是給CPU、GPU這類邏輯IC使用的，大機率是給功率半導體、MEMS和光電子器件使用的。當然，也不排除會有變化，畢竟我只是從現有的資訊推斷未來。畢竟中電科是涉軍單位，誰知道有沒有什麼黑科技呢~
那麼，給邏輯IC使用的光刻機進展如何了呢？
先有請我們的一號種子選手，上海微電子裝備集團出場，大家鼓掌。
再次提醒，雖然都在上海，但是中微不是上微，中微是做刻蝕機的公司，不做光刻機，完全是兩種裝置，希望大家不要搞混了。
雖然上微已經是我文章的老熟人了，但最近有幾則訊息還是值得品讀一下。
大概是一月初，我在某公眾號突然看到一個推送，說是上微中標了某國產儲存廠的光刻機，並且還配了圖，看上去言之鑿鑿。
但問題在於，這公眾號竟然把文章給刪了。我後來去多方渠道求證的時候，並沒有發現某廠的招投標資訊裡有這麼一條中標檔案。
那麼，到底是真是假呢？我個人判斷啊，可能是真的。某廠所有的裝置採購都要走招標流程，幾乎是全透明的。但招標這東西也有公示時間，圖裡顯示，評比公示截至時間是1月5日0點。也許，這個標的資訊到了1月5日就沒了。
某廠之前的光刻機招標裡只有ASML和尼康，這次出現了上海微電子，的確是一個很振奮人心的訊息。前提，這條中標資訊是真的。
其實按照時間來推斷，上海微電子最新的光刻機也應該下線了。根據幾個配套廠的進度來看，上微總成的光刻機驗證機應該在去年底組裝完畢了。
至於什麼時候量產，我覺得可以從另一條新聞來判斷。
2021年1月8日，中芯京城積體電路生產線專案獲准開建。中芯京城是中芯國際、亦莊國投和大基金二期與2020年12月7日共同成立的合資公司，總投資500億人民幣。這家公司的成立是中芯國際進入實體清單的直接導火索，因為中芯京城將會是全面去美化，甚至是純國產化的生產線。
按照中芯北方的情況，同樣是兩條產線，中芯北方大概用了一年半的時間就把第一條產線建好，開始量產。中芯京城的速度只會快不會慢，大機率會在2022年1月底之前搞定第一條產線。
所以，為了配合中芯京城的進度，上海微電子一定會在2021年中開始進行光刻機的量產，2021年底至少有1-2臺國產光刻機進入中芯京城的生產線進行適配。
順帶一提，今年是第一個一百年，7月1日之前也許會見到巡禮影片，我大膽猜測裡面會有光刻機的影子。
到這裡，國內已知的兩個做DUV光刻機專案的進展情況就差不多講明白了。
總的來看，DUV光刻機是在按部就班的推進中，不快，也不慢。
你以為文章到這裡就結束了麼？
並沒有
還有一個更重要的東西沒講，EUV光刻機。
我想大家也猜到了，國內做EUV光刻機的不是上微也不是中電科，是中科院長春光機所。那麼進度怎麼樣了呢？
我深挖了一下長春光機所在EUV光刻機方面的專利，有一點點發現。
放個圖，大概是這樣的。
根據已有專利資訊可知，長光所可以做離軸光學系統、超高重頻窄脈寬CO2鐳射器、極紫外光聚焦反射系統等光刻機子系統。
但這好像不太夠，於是我又去找了找上海光機所的專利，又有一點點新發現。
上海光機所2021年1月1日公開了一項叫做“一種用於EUV光源中液滴靶的一體化錫原料罐裝系統”的專利。ASML的技術路線還正好就是液滴錫靶，你說這巧不巧？
鑑於上光所是長光所分出來的，再加上現在全國一盤棋的大策略，我個人感覺，長光所好像已經有能力造EUV光刻機了，但目前達不到ASML的水平。
好處是總歸解決了有無的問題，好不好用可以日後再改進嘛。
那麼問題來了，給誰用呢？
你猜~
寫在最後
過去兩年，經歷了中美貿易戰的洗禮，我們逐漸從懵逼的狀態中走出。隨著RECP、中歐投資協定的簽署，曾經充滿黑暗的道路也即將迎來黎明。
可我國的半導體產業依舊深深地受制於美國。2019年5月，華為被加入實體清單；2020年9月，美國全面制裁華為；2020年12月，中芯國際被加入實體清單。
截止2020年12月31日，美國實體清單中我國上榜的實體超過400個。美國正在用自己的科技霸權，強行壓制我國戰略新興技術產業的發展。
時間來到了2021年，今年，將會是我國半導體產業最黑暗的一年。
但隨著國產光刻機的下線，我們面對的困境也許會出現轉機。
畢竟，最黑暗的時刻，是在黎明之前。
