在9月2日，ASML方面傳出訊息，新一代EUV光刻機已研發完成，現階段正在美國康涅狄格州的實驗室進行最後一部分的安裝工作。
據知情人士透露，這款新型EUV裝置的造價高達1。5億美元，包含了10萬個精密零件和超過2公里長的電纜線，體積龐大，至少需要40個集裝箱才能完成運輸。技術方面，該裝置採用了最小化的極紫外光波長，可以進一步提升晶片的效能，縮小晶片的尺寸。
麻省理工晶片專家Jesús del Alamo對此大為驚歎，表示：“新型EUV裝置是一款革命性的產品，有機會讓即將達到物理極限的晶片製造業，沿著摩爾定律繼續再走十年”。
從半導體技術發展的角度來看，ASML研發的新型EUV具有劃時代的意義；但從目前晶片市場格局來看，該裝置的出現有利於美國，而不利於我們，對於正處爬坡階段的國產晶片來說，尖端技術方面與西方的差距進一步被拉大。
不過，就國內市場晶片工藝製程的需求而言，新型EUV對我們的影響暫時還不算很大。
相比之下，臺積電或許才是最尷尬的那位。在“EUV會給臺積電帶來什麼樣影響”的一個話題中，外媒表示：臺積電成也EUV，敗也EUV。
眾所周知，EUV裝置極為複雜，全球只有ASML能生產，而且產能還極其有限。在新型EUV出現之前，臺積電幾乎包攬了ASML70%的產能，以至於三星沒有足夠的裝置擴大5nm高精尖晶片的產能，這是臺積電能一直壓制三星的主要原因，可以說，臺積電在代工領域能如此成功，EUV光刻裝置立了大功。
之所以會說敗也EUV，是因為在新型EUV裝置的合作協議上，ASML已經取消了臺積電的有限採購權，而是把資源傾斜給了臺積電的競爭對手英特爾。
至於原因想必大家也都清楚，一切都是老美在“興風作浪”，它認為全球高精尖晶片製造在東南亞地區太過集中，會對美晶片產業造成安全隱患，於是把臺積電拉入了“風險”清單。
當然，這一切都是託辭。老美的真實目的是掌控全球高精尖晶片產業鏈，削弱臺積電在代工領域的實力是老美實現“野心”的關鍵一步；同時，老美大力扶持英特爾等本土晶片代工企業，是為了讓美晶片市場擺脫對臺積電的代工依賴。
因此，老美才會讓ASML把新一代EUV裝置資源儘可能多地向英特爾傾斜。而臺積電如果沒有足夠的裝置支援，那麼在5nm以下高精尖晶片的代工產能效率方面，將有可能會大幅下滑。
除此之外，我們的國產中端光刻機已經落地，突破了三大核心技術的高階EUV裝置也或將在不久之後正式落地，這意味著，國內晶片市場的自給率將進一步提升，衝破老美的封鎖指日可待。
但高精尖晶片領域，臺積電自始至終都無法對華為等中企供貨，完全成了局外人。不僅如此，臺積電赴美建5nm晶圓廠、幫助老美提升晶片製造短板的同時，卻在南京擴大成熟工藝產能，擠壓國產代工企業的生存空間，干預國內晶片市場的有序發展。
由此可見，臺積電已表明了立場，而這種落井下石的行為惹怒了無數國人。這注定了在未來我們研發出EUV裝置之時，臺積電大機率會徹底被排除在我國晶片市場之外。
總體來看，不管是ASML的新型EUV裝置，或者是國內市場高精度光刻機的突破，都將對臺積電造成巨大的影響。因此，外媒才會說“臺積電成也EUV，敗也EUV”。
當然，這樣的結果也並不是沒有迴旋的餘地，除非臺積電能夠及時醒悟，認清自己是哪國的企業，找到自己的歸屬感，然後做出正確的選擇。
