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導讀：光刻機之後，光量子晶片取得新進展，外媒：這速度也太快了吧？
中國雖然是世界有名的製造業大國，但是我國在半導體晶片領域卻一直都比較落後，這些年來中國科技企業生產所需的晶片幾乎全部都是依賴於從國外進口而來，根據相關資料統計顯示：在2019年，中國從國外進口的晶片市場規模超過了2萬億元，遠遠超過石油能源，成為了國內第一大進口商品，過度的依賴於國外晶片的發展，也導致國產科技企業的發展很容易被人卡脖子！
在國內半導體晶片市場上，可以說只有華為的海思麒麟晶片拿得出手，但是在被打壓以後，臺積電就不再繼續給華為生產海思麒麟晶片了，這也導致華為的晶片成為了絕版；而我們之所以無法生產出先進的半導體晶片，主要就是因為我們缺乏先進的光刻機，如果擁有了光刻機，那麼華為的海思麒麟晶片也就不會僅存在於圖紙上，國產科技企業在半導體晶片領域也將不會受制於人！
這一次美國的打壓，也讓無數的國產科技企業都意識到了研發自主晶片產業鏈的重要性，最近這兩年，在國內市場上也開始掀起了一股研發晶片的潮流，而且中科院、清華大學等國內頂級具有研發實力的機構和單位也開始成立了專門的科研小組，為得就是研發和解決光刻機等卡脖子的技術問題，經過不斷的努力，清華大學團隊已經宣佈：在研究新型粒子加速器光源過程中，發現了一種波長可覆蓋從太赫茲到極紫外波段，這種光源可以直接被應用到EUV光刻機上。要知道ASML公司所生產的EUV光刻機就是應用了極紫外光技術，如果我們能突破這一技術，也就意味著我們的EUV光刻機也就不遠了！
除了在光刻機領域取得了突破以外，在光量子晶片領域，我國的科研團隊也一直在不斷的努力攻關，近日，國防科技大學計算機學院QUANTA團隊聯合眾多的國內科研單位一起主導的光量子晶片也取得了新的進展和突破，他們已經編寫出了新型可程式設計光量子晶片，這種晶片能用多種量子演算法求解，可以說這一新突破也意味著我們在光量子晶片領域有了新的發展方向。
要知道，目前我們所使用的晶片大多都是矽基半導體晶片，而這種晶片是要遵循摩爾定律來發展的，可以說它也是有一定天花板的，當矽基半導體晶片發展到了5nm以下以後，就很難再有新的突破了，所以不少頂級的半導體巨頭都在尋找新的晶片材料，而光量子晶片無疑就是發展的一大方向，如果我們能實現突破的話，那麼也可能對國外的半導體晶片實現彎道超車！
在看到中國在短短兩年時間裡，就在光刻機，光量子晶片等領域取得了巨大的突破和進展，不少外媒也紛紛表示：這速度也太快了吧？如果中國光量子晶片取得突破，那麼國際晶片市場也將重新洗牌。正如此前微軟公司的創始人比爾蓋茨所言，不給華為等中國企業供應晶片，那麼最終只會倒閉中國實現晶片的自給自足，而到時候晶片也將變得廉價起來；可以說現在這一切都在朝著這個方向發展，不知道對此你是怎麼看的呢？
