光刻機
光刻機作為晶片生產中必不可少的裝置，一直備受各方的注意。而上海微電子作為國產半導體的龍頭企業，其負責的193nm ArF準分子鐳射的乾式和浸沒式DUV光刻機（用於28nm晶片製造）的量產時間卻一拖再拖。
02專項
其實按照“02專項”（極大規模積體電路製造技術及成套工藝）的預定時間表，在2020年就應該完成DUV光刻機（28nm級別）的攻關，但從目前掌握的訊息來看2021年的機會已經不大，2022年是否能夠量產依然是未知數。
為何DUV光刻機產生了這麼大的延遲？一方面是02專項其他配套的研究機構也有或多或少的延遲，因此作為裝置整合商的上海微電子的光刻機進展自然會受到影響；另一個重要因素則是上海微電子投入的研究經費實在是太少了——10年6億，平均一年只有6000萬的研發費用，這在光刻機領域來說實在是太少了。
ASML光刻機
作為對比，光刻機巨頭ASML在EUV光刻機上的投入高達60億歐元（摺合470億人民幣），是上海微電子投入的78倍；而一臺EUV光刻機的售價就高達1。2億美元（摺合7。7億人民幣），也就是說ASML一臺EUV光刻機的售價就比上海微電子10年的研發費用要高。
華為2020研發投入
研發投入對於企業的重要意義不言而喻，華為為什麼能在5G領域取得全球領先地位？最重要的一點就是其每年高達15%以上的研發投入佔比，在2020年研發投入佔比更是創下新高的1418億。在遇到晶片禁令之後，華為已經處於生死存亡的關鍵時刻，因此不得不考慮進入晶片製造領域。
華為招聘光刻機人才
技術研發什麼最重要？當然是人才，而擁有超過1400億研發投入的華為自然不會在薪酬待遇上存在什麼問題，於是華為就開始了對晶片人才的高薪挖角。
上海微電子薪酬
但是上海微電子就遭到了池魚之災。透過薪酬對比可以看到，上海微電子對於高階工程師的工資報價大約在3~4萬，而華為的薪酬可以給到2倍之上，因此導致了大量關鍵人才的流失，為此多家半導體企業的高層向工信部投訴華為違規“高薪挖人”會導致02專項發生延遲，於是華為也不得不暫時停止這種行為。
華為
其實對於員工來說尋找更好的發展機會和更高的薪資是人之常情，為什麼華為遭到如此重大挫折之後依然可以保持自己的員工隊伍並且還能從其他公司挖角人才呢？對於光刻機等高科技領域來說，或許把市場交給企業，以企業為主力來完成技術突破會是一個更好的選擇。
