集微網訊息，據韓媒The Korea Economic Daily Global Edition報道，韓國晶片製造商預計將減少對EUV工藝核心溶劑的進口，因為當地公司已成功大規模生產該材料。
Jaewon Industrial工廠
圖源：The Korea Economic Daily Global Edition
據行業內訊息人士稱，石化和電子材料製造商Jaewon Industrial Co。實現了丙二醇甲基醚乙酸酯（PGMEA）的商業化，PGMEA是半導體行業常用的一種溶劑，用於在矽晶圓上應用表面粘合劑。
Jaewon表示，該公司是第一家大規模生產PGMEA的韓國公司，儘管一些公司已經成功開發了這種溶劑。
PGMEA由半導體用稀釋劑製成，在EUV曝光過程中清洗沒有EUV光敏反應的部件上的光刻膠。當在曝光過程之前將其應用於晶圓時，該溶劑還有助於以較少的量均勻分佈感光材料。
透過EUV工藝製造的半導體具有非常精細的電路，因此非常小的雜質就會降低產量。EUV工藝需要純度為99。999%或更高的PGMEA。
日本製造商如大賽璐（Daicel Corp。）一直在生產這種純PGMEA方面占主導地位，而韓國公司以前擁有的技術只是提高PGMEA的純度，而不是將丙二醇單甲醚（PGME）合成為PGMEA。
Jaewon於2018年開發了自己的PGMEA合成技術。該公司去年將PGMEA產能擴大到3萬噸以進行大規模生產。
該公司預計韓國晶片製造商將在上半年開始將其PGMEA用於EUV工藝，從而每年減少約1000億韓元（8370萬美元）的溶劑進口。
一位公司訊息人士稱，成立於1987年的Jaewon將考慮在美國生產PGMEA，並將在美國建立電池材料工廠。
（校對/Ukyan）
