2021-09-30晶片臺積光刻機領域生產

光刻機被卡脖子只是暫時的，解決國產晶片的供應問題也只是時間問題，隨著中國在晶片領域的快速崛起，留給臺積電的談判“籌碼”也已經不多了，未來臺積電還想要在全球晶片市場上保持霸主地位，就必須要認清形勢，並加大在中國市場的發展，為中國企業服務才行，...

2021-09-29晶片光刻機華為高階漢明

吳漢明 院士4、寫在最後那麼任正非佈局3nm晶片，終究是竹籃打水一場空嗎...

2021-09-29華為光刻機晶片鴻蒙任正非

我們說，華為是一家居安思危的公司，任正非的理念也非常超前，為什麼偏偏就在晶片和光刻機領域被束縛了手腳呢...

2021-09-28晶片半導體奈米領域光刻機

中國芯不斷加速與此同時，當摩爾定律無限接近物理極限的時候，先進製程的工藝發展逐漸緩慢，這讓很多國家有了自主研發晶片的想法，目前全球範圍內很多國家都在不斷去美化，希望能夠在晶片領域之中掌握絕對的主動權對於中國來講，目前國內半導體領域也已經出現...

2021-09-2828nm裝置中芯產線光刻機

▲華海清科2020年前五大客戶（來源：華海清科招股書）三、短期內仍需依賴國際巨頭整體來看，國產裝置廠商的產品已可以應用於28nm製程產線中，甚至在部分領域達到了行業領先水平...

2021-09-25臺積晶片華為光刻機國產

在相關禁令以及全球缺芯問題的情況下，我國的半導體行業正在如火如荼的發展著，雖然我們起步比歐洲相關國家晚了幾年，但是我們後期的步伐緊緊追趕，現在已經國產晶片方面取得了很大的進步，已經不單純的依靠進口來維持國內需求，我們從技術的各個方面逐漸的在...

2021-09-23蝕刻中微半導體晶片光刻機

2004年，已是花甲之年的尹志堯博士創立中微半導體公司，在2017年突破了5nm蝕刻機技術，一舉達到國際先進水平...

2021-09-23光刻膠冰刻晶片光刻機技術

面對如此大的差距，追趕上不是一朝一夕能做到的，而冰刻技術的出現就可以完美繞開光刻膠這項技術，它的原理是透過水霧覆蓋包裹晶片，在超低溫下凝結後直接進行雕刻，雕刻完畢後再使用電子束照射被打到的薄冰層將直接氣化冰刻技術的，優點在於清潔和高效傳統光...

2021-09-21ASML光刻機EUV臺積韓國

看到臺積電三星未來然而，荷蘭ASML能夠超過日本的尼康、佳能，壟斷EUV光刻機市場，主要是因為當初美國英特爾讓其加入了的EUV  LLC組織，這個組織將日本的尼康排除在外，ASML獨享了這個組織的EUV相關技術，才能夠一舉成為光刻機領域的霸...

2021-09-21晶片中芯7nm光刻機試產

對於中芯國際而言，N+2工藝晶片的試產、量產很重要，這能夠讓中芯國際徹底掌握與臺積電7nm晶片效能相當的晶片製造技術...

2021-09-21晶片中芯光刻機7nmASML

也就是說，中芯國際可以獲得ASML的DUV光刻機等技術，還能夠獲得其它部門美國企業的裝置，這說明中芯國際從裝置方面獲得一定的突破...

2021-09-20光刻機EUV光源多層球面鏡

極紫外光刻機有八大核心技術，分別是光源技術微縮投影光學系統EUV多層膜技術光學加工與檢測系統掩模照明光學系統反射式掩模技術抗蝕劑技術精密工件臺技術光源技術EUV光刻機對光源的要求比較高...

2021-09-19封裝微電子光刻機視場上海

摘要：9月19日，上海微電子裝備集團（以下簡稱“上海微電子”）官方釋出訊息稱，上海微電子於9月18日舉行新產品釋出會，宣佈推出SSB520型新一代大視場高解析度先進封裝光刻機...

2021-09-18光刻機華卓精科工件精密

募資超7億，加碼研發華卓精科成立於2012年，雖被譽為國產光刻機第一股，但公司不生產光刻機整機，而是聚焦EUV光刻機雙工件臺技術...

2021-09-17華為晶片光刻機光刻膠研發

然後用光源對晶體進行照射，從而實現電路貼合到晶片上，利用光刻膠對光源的敏感性，設計出電路形狀，最後在透過蝕刻清洗這一過程，對晶片起到重要作用的光刻膠，基本上被日本和美國壟斷...

2021-09-16晶片汽車奈米億塊光刻機

晶片戰爭已經打響，這是無法避免的，只有站在金字塔頂端的人才能決定遊戲規則，就好比華為中興作為這個遊戲的優秀玩家，但是仍然無法抗衡遊戲規則的制定者，國產晶片一天不崛起就要受一天的壓制，所以“中國芯”必將崛起，這不是一個選擇題，這是建立在全國人...

2021-09-14華為晶片海思光刻機好訊息

畢竟國內目前還沒有能夠代工3nm晶片的企業，那麼有些朋友可能會說，華為這不是在做無用功嗎，其實我們不能這樣想，就算沒有企業能為其生產，華為也得繼續進行研發，不然的話用不了多長時間，一定會被西方國家甩的遠遠的，屆時，想要打破美國封鎖就更難了，...

2021-09-09華為光刻機晶片自研工程師

光刻機是製造晶片最重要的一臺機器，華為一直擁有設計晶片的能力，但始終無法制作主晶片，為了改變這種被動狀態，華為也是準備開啟晶片自研的第一步，光刻機工程師主要是設定和最佳化光刻機工藝引數，並且對工藝穩定做日常監測，還要及時解決技術問題，光刻機...

2021-08-27ASML光刻機EUV研發投入

我們不能期望在研發經費投入差距這麼大的情況下，短期內讓上海微電子裝備的光刻機追上ASML，這是不現實的...

2021-08-05EUVMET曝光光刻機光機所

圖4：MET工具一般具有200x600 um2的靜態曝光視場3，1999-2002年：基於4鏡頭EUV光源工程測試平臺ETS這個之前詳細介紹過，EUV光源工程測試平臺（Engineering Test Stand，ETS）是一個4鏡頭的可進...