光刻機到底難在哪?為什麼如此難超越?
所以那會兒,世界上生產光刻機的老大哥是佳能,但在這個基礎上,沒過多久,荷蘭的飛利浦就研發迭代出了一個更新的產品,這個技術叫做步進式掃描光刻技術,要比尼康那個步進式重複光刻技術精度更高,可是飛利浦不確定這個技術到底有沒有商業價值...
所以那會兒,世界上生產光刻機的老大哥是佳能,但在這個基礎上,沒過多久,荷蘭的飛利浦就研發迭代出了一個更新的產品,這個技術叫做步進式掃描光刻技術,要比尼康那個步進式重複光刻技術精度更高,可是飛利浦不確定這個技術到底有沒有商業價值...
而隨著華為、比亞迪、格力等科技巨頭每年在晶片產業數千億的研發投入,EUV等高階光刻機實現100%國產化只是時間問題...
黃芊芊的學術成果和經驗積累,以及對晶片製造領域的研究突破,或許能幫助華為解決光刻機困境,突破一些核心技術也未可知...
當老美邀請臺積電赴美辦廠的時候,臺積電並沒有經過太多的猶豫,就在老美國內投資了數百億資金建立新的晶片工廠...
此次高能同步輻射光源科研裝置和鏡鍍膜裝置的突破將中國在光刻機制造領域的研究程序先前推進了一大步...
其實不然,不管光刻機還是刻蝕機,只是為國產晶片自主化提供了硬體的支援,軟體方面,專利授權等相關智慧財產權方面,還得需要華為這種科技“尖刀連”爆破掉對手的一個個技術“碉堡”,比如晶片架構授權、EAD系統設計輔助軟體等...
而全球光刻機大廠ASML獨家供應的EUV光刻機,則是製造7nm以下先進製程的必備裝置...
隨著華為事件的發酵,國家層面出臺了相關政策大力扶持國內的半導體行業發展,中科院也是積極加入光刻機研發製造的行列中來,為高階光刻機的研發貢獻自己的一份力量,中科院為國人注入了“強心劑”...
另一家半導體裝置企業中微半導體,其自主研發的5nm等離子體刻蝕機經臺積電驗證,效能優良,將用於全球首條5nm製程生產線...
ASML也是一家專門致力於製造以及銷售光刻機的公司,可既然ASML有著這樣先進的技術為什麼不發展相關產業鏈以謀取更多的公司效益呢...
臺積電明確表示,不會交出機密資料,這是為了防止自身被超越,因為一旦庫存等資訊被洩露出去,這會導致臺積電失去議價權...
雖然說ASML在光刻機技術領域有著很大的優勢,但不得不說如果沒有中國市場,它將什麼也不是...
無論是晶片製造技術的快速升級,還是光刻機技術的快速升級,都證明了半導體領域相關產業卡不了中國的“脖子”...
由此可見,全球缺芯對ASML並沒有直接的影響,現有工廠就能夠讓ASML生產製造更多光刻機,但臺積電等晶片製造企業卻不行了,必須擴大工廠才能夠提高產能...
而此次新一代極光刻機(EUV)的組建,很有可能使晶片在摩爾定律的道路上再走十年...
其次,我國準備量產國產高階蒸鍍機,從另外一方面來看的話,這似乎也意味著我國未來可能會大量生產這種機器...
但隨著ASML將資源向對手英特爾傾斜,美國的晶片製造水平必然會水漲船高,而臺積電的市場地位以及影響力,必然會大打折扣...
ASML沒想到近日,日本廠商傳來新訊息,其在不用EUV光刻機的情況下,依舊能夠生產製造5nm等晶片,但與臺積電的多層曝光工藝不同,其採用的是NIL製程技術...
由於只有ASML公司一家企業能夠製造EUV光刻機,致使EUV光刻機非常緊缺,各大晶片製造廠商為了能夠獲得足夠多的EUV光刻機,擴大晶片產能,提升行業內的話語權,紛紛奔赴ASML公司總部洽談採購事宜,如三星電子掌門人李在鎔,為了能夠拿到更多的...
也就是說,臺積電能夠用EUV光刻機生產製造3nm晶片,而ASML實現EUV光刻機自由出貨後,國內廠商技術突破後,也能夠用EUV光刻機量產3nm晶片...