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ASML新一代EUV光刻機正式確認,臺積電卻高興不起來

在偏向智慧的時代,晶片這種半導體元器件的重要性倍加凸顯,幾乎涉及到“無人駕駛、遠端醫療、智慧手機、家電、電子裝置”等各行各業。不過,目前全球晶片市場卻遭遇了兩個大問題。

ASML新一代EUV光刻機正式確認,臺積電卻高興不起來

第一:晶片產能供應不足。這與美國實施的晶片禁令不無關係,限制自由出口打破了全球晶片產業平衡,讓本就捉襟見肘的晶片供應,更加雪上加霜。

好訊息是,

缺芯的危機以及老美的封鎖,加速了中國半導體晶片產業自給自足的步伐

,目前10億顆晶片的日產能和正處建造之中的16座晶圓廠,都證明了中國半導體產業的日益強大,作為全球最大的消費市場,

我國的自給自足能在很大程度上緩解全球缺芯的現狀。

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另外,歐洲、日、韓等多地也都開始大力投資本土半導體產業。意法半導體CEO表示:

全球缺芯的問題,預計在2023年上半年就能得到緩解。

第二:

晶片先進的工藝製程在觸及3nm節點之時,已逼近物理極限。若想延續摩爾定律,要麼推出更高階的EUV裝置,要麼尋找新型半導體材料、開闢新航道

沒想到的是,全球唯一能生產EUV光刻機的ASML,這麼快就又有了新的進展。

ASML新一代EUV光刻機正式確認,臺積電卻高興不起來

據外媒9月2日訊息報道,

ASML設計的新一代極紫外光刻機基本已經完成

,目前正在美國康涅狄格州的威爾頓安裝最後的部分元件。

知情人士透露,這臺新型EUV光刻機造價1。5億美元,大小與公交車差不多,整個機器包含10萬個部件和大約2公里長的電纜,需要3架貨機或者20輛卡車才能運輸。在效能上,

新型EUV的精度是前所未有的,採用了最小化的紫外線波長,可以讓晶片的尺寸在未來幾年內繼續縮小

,以提高晶片的整體效能。

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麻省理工學院研究新型電晶體架構的教授Jesús del Alamo表示:

“這款革命性的產品,將有望讓晶片製造行業沿著摩爾定律至少再走上10年時間”

這意味著,傳統矽基晶片在未來十年內或將仍會是市場主流。

對全球最先進的代工企業臺積電來說,這本來是好事,但臺積電卻高興不起來,因為它的處境將會越來越尷尬。

首先,ASML方面已經確定,新型EUV裝置將優先供應於美晶片巨頭英特爾。要知道,在過去臺積電包攬了ASML大約70%的EUV產能,這是臺積電能夠成為代工“老大”的關鍵。

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但隨著ASML將資源向對手英特爾傾斜,美國的晶片製造水平必然會水漲船高,而臺積電的市場地位以及影響力,必然會大打折扣

。臺積電張忠謀雖然明白並痛批老美的野心:不要妄圖掌控全球高精尖晶片產業鏈,美國沒有這個實力和條件。但卻因為技術依賴,拿美國沒有絲毫辦法。

其次,隨著ASML新一代EUV的誕生,其普通的EUV光刻機或將被允許向我國市場出口。

在晶片禁令之初,ASML首席技術官馬丁·範登·布林克(Martin van den Brink)就曾表示:

美方限制的是ASML最先進的光刻裝置以及在美本土生產的裝置

。這是ASML在近兩年能夠向我國出口57臺部分型號DUV光刻機的主要原因。

ASML新一代EUV光刻機正式確認,臺積電卻高興不起來

也就是說,

在新一代EUV正式商用後,ASML在非美地區製造的普通EUV光刻機大機率是可以自由出貨的

對國內晶片市場而言,一旦擁有普通EUV光刻機,就將迅速步入高精尖晶片市場。而臺積電引以為傲的5nm、3nm技術,在我們這裡將不再具備必須性和唯一性,結合臺積電對國產晶片“落井下石”的行為,未來它大機率是要被排除在大陸市場之外了。

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更重要的是,當我們擁有了一臺普通EUV光刻機後,科學家們就相當於有了技術參考,將會在很大程度上推動自主研發的腳步,甚至會無限縮小我們與西方的技術差距。屆時,臺積電的處境將會變得更加尷尬。

因此,ASML新一代EUV光刻機的落地,暫時看來對臺積電並不是什麼值得高興的訊息。

不過,臺積電如果能及時醒悟,培養一下自己的民族歸屬感,然後做出正確的抉擇,或可避免未來大機率要出現的“悲劇”