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中科院立功,“新航道”正式確認,外媒:EUV已困不住“中國芯”

EUV光刻機是高階晶片製造的核心裝置,雖然全球只有荷蘭光刻巨頭ASML能生產,但它的產線上卻糅合了許多其他國家地區的尖端技術,尤其是美國的光源,在EUV裝置中的技術佔比高達27%。

正是憑藉著該壟斷的技術優勢,美國才妄圖透過限制ASML對國內市場的出口,來困住“中國芯”的發展。

中科院立功,“新航道”正式確認,外媒:EUV已困不住“中國芯”

價值1。2億美元的EUV裝置有多難製造想必大家也都有所耳聞,據悉,該裝置重達180噸,需要40個集裝箱才能完成運輸,而且,它所含的精密零件超過了10萬個,供應商來自全球各地5千多個廠家。

在我們決定自研EUV之時,不僅ASML潑來冷水,表示:給中國圖紙也造不出。就連吳漢明院士也呼籲:我們憑一己之力研發EUV不現實,還不如把精力放在中低端晶片領域,先把基礎打好。

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吳漢明院士的呼籲並非是“畏難精神”,而是結合了我國晶片產業的現狀。要知道,28nm製程以上的成熟工藝晶片足以解決80%左右的市場需求,智慧手機所用到的5nm移動晶片只能算是個例。

更重要的是,傳統矽基晶片在迭代到3nm精度的時候,就已經快要達到物理極限了,更換航道已刻不容緩。最擔心的就是當我們費盡九牛二虎之力突破了EUV之時,卻發現新的晶片時代根本用不著該裝置,這難免會造成巨大的資源浪費。

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因此,我國科學家們為“中國芯”制定了“兩條腿走路”的發展策略,一方面是繼續在EUV等傳統技術裝置上進行追趕;另一方面是,加大科研投入,尋找並確定新航道,力爭在新型晶片領域實現反超。

在近日的IEEE國際半導體會議上,來自全球各地區的晶片專家們經過多次對比測試之後,最終確定並公認:石墨烯為最新的半導體材料,以石墨烯打造的碳基晶片最有希望突破3nm工藝製程的壁壘,以實現摩爾定律的延續。

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提及石墨烯,相信所有人都不陌生,因為在去年的全球石墨烯創新成果展示大會上,中科院自研的8英寸石墨烯晶圓震驚了海外學者:無論是尺寸或者效能,該晶圓都是全球最頂尖的水平。

如今,石墨烯材料已經正式得到了國際的認可,這意味著,在接下來的石墨烯碳基晶片時代,我們相比西方不僅不落後,而且還處於領先地位。

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這絕對是個振奮人心的好訊息。因為在過去幾十年裡,我國半導體產業一直處於跟跑的地位,但隨著石墨烯晶片時代的到來,我們在全球半導體市場,將徹底實現從依賴到主導的“角色”轉換。毫無疑問,中科院立了大功。

值得強調的是,以石墨烯為核心材料的碳基晶片,不僅在傳輸效率、安全、功耗等各方面效能上穩壓矽基晶片一頭,而且碳元素耐高溫、易導電、易成型和加工”的特性,決定了碳基晶片在製造方面也比矽基晶片更加簡化,理論上無需用到EUV光刻機。

據知情人士透露,現階段,國內多家晶片巨頭都與中科院展開了在石墨烯碳基領域的研發合作。

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對此,外媒表示:美國費盡心機透過ASML構築的EUV光刻機壁壘,已困不住“中國芯”的崛起。

其實早在晶片禁令之初,國內外許多專家就有一致的看法:晶片斷供適得其反,只會加速中國晶片產業自給自足的步伐。

事實也的確如此,圍堵之下,國內市場本著缺什麼就造什麼的原則,不僅在各項裝置、材料方面不斷傳出著破冰的好訊息,而且在創新型晶片技術上,更是一發不可收拾。正如網友們所說的那樣:封鎖吧,再封鎖個三五年,“中國芯”就會更快地站在全球市場的頂端。